大日本印刷（DNP）はSEMICON Japan 2025に出展し、ナノインプリントリソグラフィ（NIL）用テンプレートやEUVリソグラフィ用フォトマスクを紹介した。2003年からNIL用テンプレートの開発を進め、回路線幅10nmのテンプレートを開発したと発表している。DNPは活版印刷で培った金属加工の知見を活かし、1.4nmプロセス相当に対応する加工技術を持つと説明した。2027年をめどに2nmプロセス向けテンプレートの量産開始を目指している。

見解・楽しみ方：

活版印刷という“手仕事”の延長線上に、最先端半導体の世界があるという事実がすごく胸熱だ。昔ながらの金属版を叩き、インクを刷る作業と、ナノメートル単位で金属を加工する仕事は、一見すると遠いけれど、どちらも素材に向き合う職人性を共有している。趣味で版画や活版に触れている人は、その感覚を“未来のものづくり”につなげて語れる材料を手にしたとも言える。こういう熱量って、結局“語れる相手”がいると一気に加速する。地域の工房見学や産業展示会を訪れて、同じ温度感の人と会う体験を予定化すると、好きが現実に根づく。

具体的には、週末に開かれる印刷ワークショップやものづくりイベントに一人参加してみると意外な仲間に出会える。「活版×半導体」みたいなテーマで小さなトーク会を自分で企画するのも手だ。イベント後に続くささやかな交流が、次の企画を生み、好きが習慣になっていく。クラフト好きもガジェット好きも、一緒に語り合える場を見つけて、手触りと最先端のギャップを楽しんでほしい。